表界面・薄膜・ナノ構造研究会



日時: 
平成21年3月14日(土) 12:30-16:15
場所:
SPring-8 中央管理棟 上坪講堂
目的:
最近の研究の進捗状況の報告、施設の現状

プログラム:
12:30-12:35
会長あいさつ 高橋 功 (関西学院大学理工学部)
12:35-12:50

生分解性高分子PHB表面の準安定結晶とその転移  高橋 功(関西学院大学理工学部)

12:50-13:05

アトムレベルのガラスナノインプリントの可能性  吉本 護(東工大)

13:05-13:20 電極表面におけるカチオン種の構造  中村 将志(千葉大学)
13:20-13:35 多波回折現象を利用したシリコン酸化膜/シリコンおよびシリコン窒化膜/シリコン界面下のひずみの評価 矢代 航(東大)
13:35-13:50 β-FeSi2/Si(001)熱反応堆積成長のその場X線回折  花田 貴(東北大学)
13:50-14:00 TlまたはBi吸着Ge(111)表面のRashba効果 八田 振一郎(京都大学)
14:00-14:10 休憩
14:10-14:25 強誘電体薄膜の電歪決定のためのナノ秒時分割X線回折 坂田 修身(JASRI/SPring-8)
14:25-14:40 SAGA-LSにおけるX線回折を用いた単相β-AlN薄膜の評価 隅谷 和嗣(Saga Light Source)
14:40-14:55 BL13XUにおけるUHV装置の現況(仮) 田尻 寛男(JASRI/SPring-8)
14:55-15:10 高分解能マイクロX線回折装置の利用研究の紹介 木村 滋(JASRI/SPring-8)
15:10-15:15 立ち上げ予定の装置の紹介(仮)(時間によっては省略) 坂田
15:15-15:25 休憩
15:25-16:00 10年後に展開される表面界面ナノ構造の研究 司会 高橋 功(関西学院大学理工学部)
16:00-16:10 感想など(仮) 原田 仁平(名古屋大学)
16:10-16:15
おわりに 吉本 護(東工大)