SPring-8 ワークショップ

副題／演題

先端磁性材料（SPring-8利用推進協議会第１回先端磁性材料研究会、SPring-8利用者懇談会ナノ・デバイス磁性研究会）

開催期間

2009年03月17日

開催場所

アジュール竹芝

主催

(財)高輝度光科学研究センター（JASRI）

協賛者など

SPring-8利用推進協議会
SPring-8利用者懇談会

形式

分野

物質科学, 産業利用

概要

概　要：	磁性材料開発は、近代日本を支える電気、自動車等メーカーの材料戦略において常に重要な地位を占めてきた。記録媒体とヘッド材料などの磁気記録関連材料、さらに、モーター等の動力用磁性材料やトランス用磁性材料など、種々の磁性材料が社会を支え、また、私たちの生活を豊かにしている。このような状況下にあって、原子レベルで磁気特性を明らかにするために放射光を利用した解析はますます重要になっている。そこで、本ワークショップでは、次世代HDDヘッドおよびMRAM材料の進展と評価技術を中心とした講演により、放射光実験を中心とした実験手法・解析手法に関する最新手法や実験例を披露することで磁性材料開発を取り巻く最新の情報交換を行い、この分野の更なる発展を模索する機会としたい。
主　催：	(財)高輝度光科学研究センター（JASRI）
共　催：	SPring-8利用推進協議会 SPring-8利用者懇談会
日　時：	2009年3月17日13:10‐17:15（技術交流会：17：30‐18:30）
会　場：	アジュール竹芝東京都港区海岸1-11-2 JR山手線・京浜東北線浜松町駅北口より竹芝方面へ徒歩7分アクセスマップ：http://www.hotel-azur.com/access.html
プログラム：
13:10-13:25	はじめに－趣旨説明－　角田匡清（東北大学）
13:25-13:55	SPring-8における磁性材料研究　中村哲也（JASRI/SPring-8）
【概要】	近年、磁性研究手法として放射光の担う役割が飛躍的に大きくなっており、 SPring-8においても種々の磁性材料研究が展開されている。講演では、SPring-8 で行われている磁性研究実験の概要と、その中でも特に企業ユーザーの方々に最も良く利用されているＸＭＣＤについて紹介する
13:55-14:25	次世代HDDヘッド材料の開発　野口潔（TDK株式会社）
【概要】	HDDヘッドの高密度化は、再生素子であるAMR、GMR、TMRヘッドの進展、および記録式、記録素子の材料・構造の進化によって実現されてきた。本研究会ではHDDヘッド材料の変遷将来の方向性について講演いたします。
14:25-14:55	軟X線反射率計測による磁気多層膜の界面磁化分布　淡路直樹（株式会社富士通研究所）
【概要】	Ｘ線共鳴磁気反射率法は、薄膜中の特定元素の磁化の深さ分布を計測できる極めて魅力的な技術である。特に軟Ｘ線領域においては、測定は真空中となる反面、Ｌ吸収端のＭＣＤ信号は大きく、明確な磁気効果が得られる。BL25SUにおいて行ったFeCo/Pd多層膜界面の磁化分布評価および、IrMn/CoFe交換結合膜中のMn磁化分布の評価について報告する。
14:55-15:25	硬X線MCDによる単磁極ヘッドの磁化状態解析　田口香（秋田産業技術総合研究センター）
【概要】	X線磁気円二色性を利用して単磁極ヘッドの磁化状態を評価した。侵入深さの大きい硬X線集光させることで、疑似媒体裏打ち層が存在する状態においても、その下層にある微小なヘッド主磁極の磁化を測定することができた。
15:25-15:40	休憩
15:40-16:10	次世代MRAMにおける磁性材料　岸達也（株式会社東芝）
【概要】	不揮発性・高速性・大容量を兼ね備えた究極のメモリとして期待されているスピン注入型MRAM（Magnetoresistive Randam Access Memory）について、原理紹介から始めて、それに用いられる磁性材料について概観する。
16:10-16:40	ハーフメタルのスピントロニクスデバイス応用と軟X線MCD解析　桜庭裕弥（東北大学）
【概要】	Co基ホイスラー合金系のハーフメタル材料を用いた磁気抵抗素子を作製し、室温においてそのハーフメタル性を発現させることを目的とした研究を行っている。XMCDによって得られる界面領域や表面の磁気的情報は、これらのデバイス構造の最適化のため非常に有用である。これら過去の実験結果に加え、最近の進展、今後の展望について講演する。
16:40-17:10	XMCD-PEEMを用いた磁壁移動型メモリ用サブミクロン磁性パターンの磁区観察　大嶋則和（日本電気株式会社）
【概要】	XMCD-PEEMを用いて磁壁移動メモリ用サブミクロンNiFeパターン中の磁区観察をおこない、メモリの基本動作である磁壁のトラップサイト間可逆移動を確認した。また、性能向上指針として形状制御の有効性を明らかにした。
17:10-17:15	閉会挨拶　永田正之（JASRI）
17:30-18:30	技術交流会（参加費1,000円）
対象者：	・先端磁性材料に関する技術に関心のある方・先端磁性材料の構造において研究課題や問題を抱えておられる方・ SPring-8での先端磁性材料に関する解析実験を計画したい方
定　員：	60名程度 ※申込者多数の場合は、締切日以前に募集を終了することがあります。
参加費：	無料（ただし技術交流会参加費：1,000円）
申込方法：	下記の申込ホームページにてお申し込みください。 https://support.spring8.or.jp/event/announce/ws_090317.html
申込締切：	2009年3月10日（火） ※申込者多数の場合は、締切日以前に募集を終了することがあります。
連絡先：	(財)高輝度光科学研究センター研究調整部研究業務課 SPring-8ワークショップ事務局垣口　伸二 TEL：0791-58-0949 FAX：0791-58-0988 E-Mail：workshops@spring8.or.jp