SPring-8 Seminar (第220回)
主題/内容 | 正倉院における機器分析調査―顔料分析を中心に |
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開催期間 | 2013年03月11日 (月) 14時30分から15時30分まで |
開催場所 | 上坪記念講堂 |
主催 | (公財)高輝度光科学研究センター(JASRI) |
形式 | |
概要 |
Speaker : 成瀬 正和 Language : 日本語 Affiliation : 宮内庁正倉院事務所 Title : 正倉院における機器分析調査―顔料分析を中心に Abstract : 正倉院事務所では1982年頃より正倉院宝物の材質調査などのため機器分析装置を順次導入している。現在保有する分析機器は、X線回折装置、蛍光X線分析装置、フーリエ変換赤外分光分析装置、走査電子顕微鏡装置(EDS装置付)、可視紫外分光分析装置、三次元蛍光分光分析装置、イオンクロマトグラフ装置、高速液体クロマトグラフ装置などである。今回話題とする正倉院宝物に用いられた顔料、とりわけ無機顔料は、X線回折装置・蛍光X線分析装置、走査電子顕微鏡装置などを用い調査を進めている。これまで確認した無機顔料は20種類を越え、機器分析調査を開始する前に推定されていた10種類を大きく超える。その成果はわが国の顔料史に多くの影響を与えている。 成瀬正和 氏 紹介 担当者 : 竹村モモ子 |
問い合わせ先 |
JASRI 研究調整部 研究業務課 SPring-8セミナー事務局 垣口 伸二、吉川史津
0791-58-0949 0791-58-0830 spring8_seminar@spring8.or.jp |