問い合わせ番号

INS-0000001469

XAFS

実験ハッチにはXAFS測定装置が設置されている。測定方法は、標準的な透過法と蛍光法が可能である。検出器は、入射Ｘ線強度モニター用に17cmのイオンチャンバーを設置し、透過Ｘ線強度測定用のイオンチャンバーは、6.5cm、17cm、31cmのものが用意されている。また、蛍光XAFS測定にはLytle検出器、単素子Ge半導体検出器(SSD)、多素子半導体検出器、Siドリフト検出器(SDD)が用意されている。イオンチャンバー等に使用するガスは、ガス混合器によって任意の混合比でヘリウム、窒素、アルゴン、クリプトンの混合ガスが使用可能である。特に、産業界において電子材料等に使用される薄膜試料に対するニーズが比較的多い。そこで、薄膜試料に対応するために斜入射蛍光XAFS測定が可能な試料ステージ（自動ω, Z, X, φステージ）が用意されている。試料に対するＸ線の入射角度をω軸で、入射Ｘ線に対する試料位置をZ, X 軸で調節する。更に、試料・基板等の回折Ｘ線による影響を除く目的でφ軸によって試料を回転しながらの測定が可能である。SSDおよびSDD検出器は、専用ステージによって試料と検出器間の距離と高さの調整が可能である。ビームラインで用意している標準試料（Ｋ吸収端測定用）は、現状で金属箔（Ti,Fe,Co,Ni,Cu,Zn,Zr,Nb,Mo,Pd,Ag,Cd,In,Sn,Pt,Au）がある。測定プログラムは、XAFS測定ビームラインBL01B1の担当者である谷田氏により作成されBL01B1において実績のあるソフトウェアを使用している。Fig.1は、透過法によるXAFS測定装置の写真である。光軸は架台上530mmの位置となるように設計され、各装置はそれに合わせて調整されている。蛍光法ではLytle検出器がよく利用されるためLytle検出器をXZステージ上に常設している。透過法からLytle検出器による蛍光法への変更は、Lytle検出器が設置されているステージをレール上で移動することによって容易に行える。

Fig.1 XAFS測定装置（透過法）