Photon interference x-ray absorption fine structure
問い合わせ番号
SOL-0000001054
ビームライン
BL29XU（理研 物理科学I）
学術利用キーワード
| A. 試料 | 無機材料 |
|---|---|
| B. 試料詳細 | 金属・合金, 半導体, 絶縁体・セラミックス |
| C. 手法 | 吸収、及びその二次過程 |
| D. 手法の詳細 | XAFS |
| E. 付加的測定条件 | |
| F. エネルギー領域 | Ｘ線（4～40 keV) |
| G. 目的・欲しい情報 | 局所構造 |
産業利用キーワード
| 階層1 | その他 |
|---|---|
| 階層2 | |
| 階層3 | |
| 階層4 | 原子間距離, 局所構造 |
| 階層5 | XAFS |
分類
A80.12 半導体・電子材料, A80.20 金属・構造材料, A80.30 無機材料, A80.32 有機材料, M40.10 XAFS
利用事例本文
Photon interference x-ray absorption fine structure (XAFS) occurs in x-ray absorption spectra due to the interference of incident x-rays. In difference to conventional XAFS, it exists over a wide energy range across absorption edges. It provides information of local structure, such as interatomic distances and coordination numbers.
The following figures show XAFS of platinum far above and below the L absorption edge.
Fig. XAFS of platinum far above the L absorption edge.
Fig. XAFS of platinum below the L absorption edge.
[ Y. Nishino, T. Ishikawa, M. Suzuki, N. Kawamura, P. Kappen, P. Korecki, N. Haack and G. Materlik, Physical Review B 66, 113103 (2002), Fig. 1, 2,
©2002 American Physical Society ]
画像ファイルの出典
原著論文/解説記事
誌名
Y. Nishino, T. Ishikawa, M. Suzuki, N. Kawamura, P. Kappen, P. Korecki, N. Haack, and G. Materlik, Phys. Rev. B 66, 113103 (2002)
図番号
1,2
測定手法
X-ray absorption coefficients are measured in the transmission scheme.
画像ファイルの出典
図なし
測定準備に必要なおおよその時間
1 時間
測定装置
参考文献
| 文献名 |
|---|
| Y. Nishino, T. Ishikawa, M. Suzuki, N. Kawamura, P. Kappen, P. Korecki, N. Haack, and G. Materlik, Phys. Rev. B 66, 113103 (2002) |
関連する手法
アンケート
ユーザー持ち込み装置を使った
測定の難易度
中程度
データ解析の難易度
熟練が必要
図に示した全てのデータを取るのにかかったシフト数
4～9シフト