5 基盤技術開発
5.1 ナノ構造イメージング等
SPELEEMによるSi上へのInSb直接ヘテロ成長過程の研究 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出1,282KB
越川 孝範     大阪電気通信大学 エレクトロニクス基礎研究所
Nano-XAFS実験技術の開発:硬X線を用いた光電子顕微鏡(HXPEEM)の新たな利用法 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出2,015KB
小嗣 真人     広島大学 放射光科学研究センター
5.2 元素変換
X線マイクロビームを用いたPd多層膜表面微量元素分布と金属組織の相関把握 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出3,453KB
岩村 康弘     三菱重工業株式会社
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