5 基盤技術開発
5.1 ナノ構造イメージング等
ZnOエピタキシャル薄膜を用いたX線ルミネッセンスホログラフィー ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出2,160KB
林 好一        東北大学 金属材料研究所
BL39XUにおける走査型XMCD顕微鏡の開発と性能評価 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出1,668KB
高垣 昌史       高輝度光科学研究センター
光電子顕微鏡を用いたパーマロイ-マイクロクロスの磁区観察 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出2,207KB
小嗣 真人       広島大学 放射光科学研究センター
光電子顕微鏡を用いた硬X線イメージング ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出2,334KB
小野 寛太       高エネルギー加速器研究機構
SPELEEMによるナノ構造試料観察の立ち上げ、およびナノ材料研究への応用 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出1,287KB
越川 孝範      大阪電気通信大学
5.2 分子操作、原子励起、イオン化等
Si:KVV共鳴オージェ電子-光イオン同時計数法を用いた分子操作の研究:
       エネルギー分解したSi:ls光電子-光イオン同時計数スペクトルに現れたサイト選択解離
ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出1,344KB
長岡 伸一      愛媛大学 理学部
異極像結晶LiTaO3におけるUV光によるTaLX線スペクトルへの影響 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出1,501KB
伊藤 嘉昭      京都大学 化学研究所
Fe Kβ'X線発光スペクトルの起源 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出1,425KB
伊藤 嘉昭      京都大学 化学研究所
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