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研究分野別 目次 |
1.エレクトロニクス |
2.新規物質、表面・ナノ |
3.エネルギー材料 |
4.環境関連物質評価 |
5.基盤技術開発 |
| 1 エレクトロニクス・情報ストレージ |
| 【ULSI技術】 |
| 1.1 ゲート絶縁膜 |
| 高温熱処理によるHfSiONゲート絶縁膜結晶化の窒素濃度依存症 |
 1,288KB |
| 佐竹 秀喜 株式会社 東芝 | |
| MOSデバイスの酸化物/半導体界面における電子状態の軟X線発光分光法による直接観測 | 1,393KB |
| 山下 良之 東京大学 物性研究所 | |
| 半導体high-k絶縁膜用酸化アルミニウム薄膜のAIK-XAFSによる構造解析 |
1,843KB |
| 竹村 モモ子 株式会社 東芝 | |
| 硬X線光電子分光法によるランタン酸化膜/シリコン界面における組成遷移層の検出 |
1,796KB |
| 服部 健雄 武蔵工業大学 工学部 | |
| シリコン酸化膜中の電子の脱出深さの酸化プロセス依存性 |
1,658KB |
| 服部 健雄 武蔵工業大学 工学部 | |
| 1.2 配線，ナノワイヤ等 |
| 金属電極上に垂直配向したカーボンナノチューブの根元構造の解明 | 1,191KB |
| 栗野 裕二 株式会社 富士通研究所 | |
| 1.3 高密度実装技術等 |
| BGAはんだ接合部における熱疲労損傷の3次元構造解析 | 1,373KB |
| 佐山 利彦 富山県工業技術センター | |
| 【磁気記録技術】 |
| 1.4 磁性半導体 |
| 酸化亜鉛中のナノサイズ遷移金属酸化物の軟X線MCD |
1,268KB |
| 田中 功 京都大学大学院 工学研究科 | |
| エピタキシャル鉄-チタン酸化物薄膜の電子構造解析 |
1,822KB |
| 藤井 達生 岡山大学 工学部 | |
| 高エネルギー光電子分光によるⅢ族窒素化物系希薄磁性半導体の電子構造解明 |
2,032KB |
| 牧野 久雄 東北大学 金属材料研究所 | |
| 1.5 記録媒体、磁性膜 |
| 199Sn核共鳴散乱法を用いた金属ナノ変調多層膜における伝道電子スピン分極の検出 |
1,486KB |
| 壬生 攻 京都大学 低温物質科学研究センター | |
| 上下をPtに挟まれたFe単原子層の強磁性 |
1,371KB |
| 今田 真 大阪大学大学院 基礎工学研究科 | |
| 次世代時期記録メディアPtFe合金薄膜のフォノン |
1,197KB |
| 角田 頼彦 早稲田大学 理工学部 | |
| 縞状磁区構造を有する超高密度磁気記録材料 CoNiFe合金系軟磁性膜の軟X線磁気円二色性の研究 |
1,901KB |
| 朝日 透 早稲田大学大学院 理工学研究科 | |
| 1.6 磁性ナノドット、磁性ナノワイヤ、磁性ナノ粒子等 |
| Interface effect on the magnetic anisotropy
in Co nanoclusters embedded in a Cu matrix |
924KB |
| Maria Luisa Fernandez Gubieda Universidad del Pais Vasco | |
| 自己組織形成強磁性ナノ細線配列の結晶配向制御法の検討とその評価 |
1,478KB |
| 新宮原 正三 広島大学大学院 先端物質科学研究科 | |
| FePtナノ粒子の磁気状態に関するXMCDによる研究 |
3,078KB |
| 圓山 裕 広島大学大学院 理学研究科 | |
| 1.7 スピンエレクトロニクスなど新規磁性材料 |
| 強磁性体/高温超伝導体接合の界面ナノ領域における化学結合状態 |
1,892KB |
| 岸田 悟 鳥取大学 工学部 | |
| 1.8 磁性強誘電体等 |
| 磁性強誘電体PbVio3の2GPaでの正方晶-立法晶構造の転移 |
1,318KB |
| 東 正樹 京都大学 化学研究所 | |
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