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支援テーマ別 目次 |
1.テーマN1〜 |
2.テーマN4〜 |
3.テーマN7〜 |
4.テーマN10〜 |
テーマN10 極薄金属酸化膜の形成とその光電子分光解析 (BL23SU) |
超熱原子・分子線により室温処理したシリコン酸窒化膜の表面解析 | ![]() |
田川 雅人 神戸大学 工学部 |
高磁場軟X線MCDによるGd,Dy内包フラーレンの常磁性磁化解析 | ![]() |
篠原 久典 名古屋大学 理学部 |
光電子分光とX線吸収分光による ペロブスカイト型Ti酸化物薄膜の強誘電性の安定性の研究 |
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林 元華 東京大学大学院 新領域創成科学研究科 |
SiTiO3/SrRuO3超格子の内殻磁気円二色性測定による界面磁性測定 | ![]() |
組頭 広志 東京大学大学院 工学系研究科 |
リアルタイムXPSによるNiAl表面の酸化過程における水素ビーム照射効果の解明 | ![]() |
福谷 克之 東京大学 生産技術研究所 |
テーマN11 高精度小角散乱によるナノ凝縮体解析 (BL15XU) |
ナノスケールでキャリア制御されたSrTiO3の発光機構の解明 | ![]() |
寺嶋 孝仁 京都大学 化学研究所 |
超音波霧化法によって生じたエタノール-水ミストのサイズ分布測定 | ![]() |
矢野 陽子 学習院大学 理学部 |
テーマN12 高エネルギー内殻光電子分光 (BL15XU) |
金属内包フラーレンのLmedgeでの高分解能共鳴非弾性散乱 |
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山岡 人志 理化学研究所 |
高エネルギーX線光電子分光によるトンネル膜向け酸窒化膜構造の評価 |
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劉 紫園 NECエレクトロニクス株式会社 |
Bulk ESCA and Valence Band measurements of Ge-Sb-Te based Optical Memory Alloys | ![]() |
Fons, Paul 産業技術総合研究所 |
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