テーマN10 極薄金属酸化膜の形成とその光電子分光解析 (BL23SU)
超熱原子・分子線により室温処理したシリコン酸窒化膜の表面解析 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出2,438KB
田川 雅人      神戸大学 工学部
高磁場軟X線MCDによるGd,Dy内包フラーレンの常磁性磁化解析 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出1,605KB
篠原 久典      名古屋大学 理学部
光電子分光とX線吸収分光による
           ペロブスカイト型Ti酸化物薄膜の強誘電性の安定性の研究
ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出1,801KB
林 元華       東京大学大学院 新領域創成科学研究科
SiTiO3/SrRuO3超格子の内殻磁気円二色性測定による界面磁性測定 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出1,277KB
組頭 広志      東京大学大学院 工学系研究科
リアルタイムXPSによるNiAl表面の酸化過程における水素ビーム照射効果の解明 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出2,862KB
福谷 克之       東京大学 生産技術研究所
テーマN11 高精度小角散乱によるナノ凝縮体解析 (BL15XU)
ナノスケールでキャリア制御されたSrTiO3の発光機構の解明 酸素分子の運動エネルギー励起によるSi(111)表面のナノスケール選択酸化1,278KB
寺嶋 孝仁      京都大学 化学研究所
超音波霧化法によって生じたエタノール-水ミストのサイズ分布測定 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出1,937KB
矢野 陽子      学習院大学 理学部
テーマN12 高エネルギー内殻光電子分光 (BL15XU)
金属内包フラーレンのLmedgeでの高分解能共鳴非弾性散乱 酸素分子の運動エネルギー励起によるSi(111)表面のナノスケール選択酸化1,426KB
山岡 人志      理化学研究所
高エネルギーX線光電子分光によるトンネル膜向け酸窒化膜構造の評価 ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出1,425KB
劉 紫園       NECエレクトロニクス株式会社
Bulk ESCA and Valence Band measurements of Ge-Sb-Te based Optical Memory Alloys ゲート絶縁膜/シリコン界面遷移層の検出1,689KB
Fons, Paul      産業技術総合研究所
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